IT之家 12 月 27 日音讯，集邦咨询近来发布《2023 年全球光刻胶商场分析》，预估 2023 年半导体光刻胶商场出售的收益同比下降 6-9%。

  不过该组织预估跟着下流客户库存继续改进和产能逐渐康复，2024 年半导体职业将阅历复苏，光刻胶需求也有望反弹。

  光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照耀或辐射，其溶解度产生显着的改变的耐蚀剂刻薄膜资料。

  光刻胶是光刻工艺中的要害资料，首要运用于积体电路和分立器材的纤细图形加工。

  光刻胶种类很多，本次涨价触及的 KrF 光刻胶归于高端光刻胶，是未来国内外厂商的首要竞赛商场之一。

  现在光刻胶商场一向由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学和东进半导体等首要制造商主导。

  光刻胶职业需求高度专业化，触及杂乱的树脂、感光酸和添加剂配方，每家公司都将其视为商业秘要。

  巨大的技能壁垒，加上从实验室实验到商场出产对纯度和功能的需求，使得整个产品研讨开发进程既耗时又杂乱。

  此外，完成用户要求和出产线 年的验证，让客户难以搬运现有协作的光刻胶公司。

  跟着下流客户库存的继续改进、产能利用率的逐渐康复，以及 AI、智能轿车等运用的老练和激增，估计半导体职业将在 2024 年阅历复苏。

  半导体光刻胶商场也有望反弹，商场规模将康复到 2022 年的前史峰值，并进一步添加，到 2027 年将超越 28 亿美元。

  跟着对先进工艺需求的继续添加，EUV、ArFi / ArF 等高端光刻胶也将继续添加。特别是，EUV 光刻胶有望大幅度添加，这还在于该职业寻求具有更高核算才能和动力功率的芯片。

  运用 EUV 技能出产的先进芯片数量估计将大幅度的添加，使 EUV 光刻胶成为半导体光刻胶商场中添加潜力最大的细分商场，估计到 2025 年，EUV 光刻胶将占 10% 的商场份额。

  因为光刻胶出产的进入壁垒很高，现在，日本制造商主导着全球光刻胶商场，供给份额约为 80%。

  特别是在 EUV、ArFi / ArF 等先进光刻胶范畴，JSR、TOK 和信越化学等日本大公司占有肯定主导地位，此前也阅历了屡次光刻胶供给商的供给中止事情。

  而我国中低端光刻胶产能率已达到 30%，并慢慢地添加 ArF 和 EUV 光刻胶范畴的研制力度。ArF 光刻胶已完成部分进口代替，估计未来国内产能将逐渐提高。